玻璃磁控濺射鍍膜的反應氣體有哪些？

作者:奧固鴻已有:N多人關(guān)注

為了產(chǎn)生氧化物、氮化物、硫化物和碳化物膜層，在進行濺射時，濺射室分別加入氧氣、氮氣、硫化氫、甲烷等氣體，純金屬靶材濺射出來的原子與這些氣體進行化學反應，生成氧化物或氮化物、硫化物、碳化物，然后沉積在基片表面而形成氧化物、氮化物、硫化物或碳化物膜層。這些氣體稱為反應氣體。工業(yè)生產(chǎn)制備氧化物、氮化物的膜層較多，所以常用的反應氣體多為氧氣和氮氣。
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